10/05/2026
#從智慧財產法院先前判決看目前的矽光子專利訴訟
#光焱科技
#汎銓科技
矽光子專利訴訟結果，可分析九禾光電和先進光的專利爭議實務見解來預測，目前實務對於光學參數及技術特徵的專利糾紛，傾向採取非常嚴格認定標準，目的在保護科技領域中公眾研發的空間！
此判決見解可預測汎銓科技和光焱科技的專利訴訟結果，首先汎銓專利要件很明顯包含「金相顯微鏡」，此為關鍵，假設光焱科技的產品沒有使用到「金相顯微鏡」，依照目前司法實務認定標準，極高概率不符合「全要件原則」，而不構成專利侵權。
而矽光子技術目前運用在半導體製程屬於相當新穎的應用，在複雜光學參數的計算，如何去檢測？如何判定有漏光？法院應會一貫傾向嚴格解讀專利文字，絕非如汎銓所稱只要使用到紅外線光譜就構成侵權這般簡單！若不如此解釋，恐侵害公眾對此矽光子技術運用於半導體的創新空間。
另外先進光告九禾光判決還有一個可以討論的標準，就是「先前技術阻卻原則」，也就是説假設兩家公司使用技術特徵類似，但只要被告可證明利用先前的公知技術，經提升後所作為目前所實施技術，縱然和專利技術特徵類似，高概率也不會判定為專利侵權。
結論：專利訴訟發起通常為大廠都後進者的防禦，而產業趨勢會歷經產能擴張到市占率保護，目前矽光子技術僅屬於產能擴充階段，預料類似的訴訟只會越來越多，無怪乎目前矽光子科技公司們都急著進行併購、策略連盟，殺戮味道只會越來越激烈，先進光告九禾光敗訴後，又透過大立光專利轉讓，再次興訟即為科技廠殺戮的證明。
https://judgment.judicial.gov.tw/LAW_Mobile_FJUD/FJUD/data.aspx?ty=JD&id=IPCV%2c111%2c民專訴%2c41%2c20241129%2c3&ot=in
